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          蒸鍍儀和濺射儀靶材選擇

          更新時(shí)間:2024-07-09點(diǎn)擊次數:80

          關(guān)于小型濺射儀 小型蒸鍍產(chǎn)品知識要點(diǎn)

          直流磁控濺射儀濺射方式是調動(dòng)靶材內磁場(chǎng),使金屬離子轟擊到樣品表面的鍍膜方式。目前只能支持金屬靶材。已經(jīng)測試過(guò)的靶材有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁、以及部分合金(鎳鐵合金)。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求

          鋁:鍍鋁推薦使用高真空分子泵。

          鉻、鎳:靶材厚度 0. 5mm 左右。

          小型蒸鍍儀是通過(guò)高溫蒸發(fā)的方式鍍膜。支持蒸鍍金屬和有機物。目前已測試的金屬有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁,有機物(石蠟)。蒸鍍儀增加膜厚監測需要用到帶有屏蔽溫度的陶瓷坩堝(原因是高溫會(huì )影響膜厚儀的測試結果)。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求。鋁:鍍鋁需要用到陶瓷坩堝。是因為鋁高溫熔化時(shí)會(huì )滲透進(jìn)鎢舟,發(fā)生脆性相,鎢舟容易斷裂。

          鎳:'熔點(diǎn)較高(1453°),需要用鎳絲纏繞鎢棒進(jìn)行蒸發(fā)。同樣會(huì )滲透進(jìn)鎢棒內,使鎢棒斷裂

          鉻:熔點(diǎn)較高(1850左右°),需要用到鉻鎢棒進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜。