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          小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是鄭州科探儀器設備有限公司生產(chǎn),臺式設計、軟件自動(dòng)操控、高性?xún)r(jià)比,非常適合實(shí)驗室科研使用。 通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面。軟件自動(dòng)操控、工藝儲存,高性?xún)r(jià)比,非常適合實(shí)驗室科研使用。稱(chēng)為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。

          產(chǎn)品型號:
          更新時(shí)間:2024-03-27
          廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
          訪(fǎng)問(wèn)量:3282
          品牌鄭科探產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
          應用領(lǐng)域化工,電子

          一、技術(shù)原理:  

          (1)小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動(dòng)操控、高性?xún)r(jià)比,非常適合實(shí)驗室科研使用。  

          (2)通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱(chēng)為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。  


          二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色:  

          ★玻璃鐘罩真空腔室,最直觀(guān)的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現象觀(guān)察;  

          ★復合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準無(wú)油真空系統(分子泵抽速≥400L/S);

          ★兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長(cháng)時(shí)間穩定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計;

          ★專(zhuān)業(yè)真空蒸發(fā)電源,數顯工作電流和電壓,恒流輸出;  

          ★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;  

          ★襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;  

          ★可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻;  

          ★可沉積金屬(Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等)、非金屬、化合物(MoO3,LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;  

          ★7寸顯示器定時(shí)定點(diǎn)調節電流,達到控制功率效果;  

          ★具有記憶儲存功能,直接調出已儲存的數據進(jìn)行鍍膜達到同樣工藝效果;  

          ★配置了靶臺擋板,可手動(dòng)調節或自動(dòng)調節擋板,及時(shí)遮擋樣品,保證樣品效果;


          三、技術(shù)支持&服務(wù):  

          1.技術(shù)支持:在合同簽訂之前,我們的專(zhuān)業(yè)工程師會(huì )在充分了解客戶(hù)需求的前提下,為客戶(hù)做出*的選型和方案設計,使客戶(hù)充分了解并理解產(chǎn)品技術(shù)指標、性能用途、使用場(chǎng)合、安全注意事項等,以幫助客戶(hù)做出正確的選擇。

          2.安裝與培訓:在產(chǎn)品使用前,我們會(huì )派專(zhuān)業(yè)工程師為您提供現場(chǎng)技術(shù)支持、培訓及演示服務(wù)。  

          3.產(chǎn)品質(zhì)保:我們對產(chǎn)品提供12個(gè)月的質(zhì)保期,在質(zhì)保期內發(fā)生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。(耗材和易損件除外)  

          4.終身維護:我們對提供的產(chǎn)品提供終身服務(wù),對于超過(guò)質(zhì)保期限的維修、維護僅收取材料費,免除一切人工費用。

                 image.png  

          以下是不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖

          637858771737832260197.png   原樣品沒(méi)有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

          637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽20分鐘

          637844882350281266506.jpg

          四、小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術(shù)資料:

          控制方式

          7寸人機界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

          加熱方式

          數字式功率調整器

          鍍膜功能

          0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

          最大功率

          1200W

          最大輸出電壓電流

          電壓≤12V  電流≤120A

          真空度

          機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

          擋板類(lèi)型

          電控

          真空腔室

          石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

          樣品臺

          可旋轉φ62  (最大可安裝φ50基底)

          樣品臺轉速

          8轉/分鐘

          樣品蒸發(fā)源調節距離

          70-140mm

          蒸發(fā)溫度調節

          1800

          支持蒸發(fā)坩堝類(lèi)型

          鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

          預留真空接口

          KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口

          可選配擴展

          機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

          數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

          分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa







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